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分子束磊晶系統 Molecular Beam Epitaxy (MBE)

鏃ユ湡;2019-08-22  鏉ユ簮锛毼粗  浣滆咃細admin

  全系列分子束磊晶系統並提供完整的周邊配件,此外 SVT Associate 擁有專屬實驗室,可以提供客戶半導體、光電材料製程、氮製程或氧製程的專業諮詢。

  我們所提供的分子束磊晶系統均採模組化設計,可因應客戶需求靈活配置。一般來說MBE系統至少配置兩個獨立的模組,一個用於長晶腔體,另一個則用於樣品取放或準備腔體,同時也可根據客戶需求增加 REED 之類的材料分析設備模組。以下是我們提供的各款分子束磊晶系統。

  本系統專用於成長高質量的化合物半導體材料,可製備具有高載流子遷移率和低缺陷的化合物半導體材料。III-V和II-VI MBE系統可使用SVTA的閥門蒸發源(valved sources)和裂解器蒸發源(cracking sources),針對固體和氣體材料進行磊晶作業。系統由兩個基本模組構成:Epitaxy Growth Module 和 Load Lock / Buffer / Preparation Module,每個模組都有獨立的超高真空抽氣幫浦設備,並通過閘閥相互隔離。就系統佈局來看,我們可提供直型(linear)、直角型(right angle)配置,也可以將系統組配置為枚葉型(cluster),客戶亦可另外選購表面分析或其他分析製程的模組。

  本系統是專門用於生長高質量的氮化鎵、氮化鋁及氮化物材料,長晶腔體透過配置RF電漿源或氨氣(Ammonia)注入器來處理活性氮含量問題,此外配備高溫襯底加熱器可以使薄膜成長更為均勻。系統由兩個基本模組構成:Epitaxy Growth Module 和 Load Lock / Buffer / Preparation Module。就系統佈局來看,我們可提供直型(linear)、直角型(right angle)配置,也可以將系統組配置為枚葉型(cluster);系統採模組化設計,客戶可另外選購表面分析或其他分析製程的模組。各款 SVTA 氮化物 MBE 系統的規格如下:

  本系統專門用於成長高質量的超導膜和金屬氧化物半導體材料。長晶模組經特殊設計可在高活性氧的環境中運作,另外模組內配置具備抗氧設計的基板加熱器,製程所需的氧氣由RF電漿源或臭氧(Ozoe,O3)輸送源產生。系統由兩個基本模組構成:Epitaxy Growth Module 和 Load Lock / Buffer / Preparation Module。就系統佈局來看,我們可提供直型(linear)、直角型(right angle)配置,也可以將系統組配置為枚葉型(cluster);系統採模組化設計,客戶可另外選購表面分析或其他分析製程的模組。各款 SVTA 氧化物 MBE 系統的規格如下:

  本系統專為滿足成長 IV-IV 材料和相關矽半導體化合物而設計,配備有電子束蒸發源及電子感應器反饋機制,可以確保高品質的矽磊晶具備再現性。系統由兩個基本模組構成:Epitaxy Growth Module 和 Load Lock / Buffer / Preparation Module。就系統佈局來看,我們可提供直型(linear)、直角型(right angle)配置,也可以將系統組配置為枚葉型(cluster);系統採模組化設計,客戶可另外選購表面分析或其他分析製程的模組。本系統的規格如下。

  本系統設計可整合在 SVT Associate 的 MBE 系統上,其目的是在超高真空腔體中,將晶圓切割成細條 / 片,晶圓的切割尺寸可依據客戶需求進行客製化調整,標準為15mm長、寬1mm的細條。細條被切割後,隨後可轉移到長晶腔體中進行細條斷切面的鍍膜處理,或將細條用於其他鍍膜製程。本系統的細部規格請與我們聯繫!


 
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